TFT-LCD gyártási technológia és folyamat
May 14, 2018
Vékony film tranzisztor folyadék kristály bemutatás (TFT-LCD) általában feldolgozott párhuzamosan két késztermékek. Az alapvető folyamat a következők:
Pontosan elrendezett szín szűrő réteg az üveg előlap hordozó/szín szűrő szubsztrát folyamat által alkotott.
A vékonyréteg-szubsztrát folyamat űrlapok vékony-film tranzisztor folyadék kristály (TFT) tömböket és más elektronikus alkatrészek, használt kijelző képpont-vezérlő. Minden képpont általában megfelel három vékony-film tranzisztor folyadék kristály (TFTs), és minden pixel szabályozza a "színes pont", hogy együtt alkotják a pixel. A vékony alakításában foglalkoztat CVD, Etch és PVD folyamat technológia hasonló félvezető-előállító technológiák. Ilyen folyamat lépéseinek többször meg kell ismételni, és a folyamatos filmréteg formában a funkcionális elem (2. ábra).
A
A két szubsztrátok egy kombinált és a folyadékkristályos anyagot fecskendeznek a közepén.
Végül háttérvilágítás és a vezető elektronikai összeszerelése létrehozására egy TFT-LCD-modul.
